鈦靶材通過高純度的鈦材料加工制成。有著光澤的銀白色外觀，其熔點(diǎn)為1660℃，沸點(diǎn)為3287℃，密度為4.5g/cm3。鈦靶材具有高純度、高密度、高強(qiáng)度和耐腐蝕等特點(diǎn)。高性能鈦濺射靶材,是實(shí)現(xiàn)電子信息制造業(yè)關(guān)鍵材料的自主研制和推動(dòng)鈦工業(yè)向高端轉(zhuǎn)型升級(jí)的重要舉措。

　　鈦靶材特征

　　鈦靶材形狀：平面靶旋轉(zhuǎn)靶異型定制

　　鈦靶材純度：2N7,4N,4N5,5N

　　鈦靶材尺寸：按圖紙加工或其他者定制

　　我們還可以提供鈦絲、鈦粒、鈦片、鈦粉等

　　鈦靶材制備工藝

　　選取鈦原料（4N或者5N），采用真空熔煉的方法將鈦原料熔融，并將熔湯澆鑄，澆鑄后的熔湯冷卻形成鑄錠坯料；

　　將鑄錠坯料進(jìn)行第一熱處理，第一熱處理的溫度為450～650℃，保溫時(shí)間0.5～2.5h，然后將保溫?zé)崽幚砗蟮蔫T錠坯料進(jìn)行熱軋延或者空氣錘鍛打，形成第一鈦坯；

　　對(duì)第一鈦坯進(jìn)行第二熱處理，第二熱處理的溫度為350～550℃，保溫時(shí)間為1～3h，然后將保溫?zé)崽幚砗蟮牡谝烩伵鬟M(jìn)行熱軋延或者空氣錘鍛打，形成第二鈦坯；

　　對(duì)第二鈦坯冷卻到室溫后，在室溫的環(huán)境下對(duì)第二鈦坯進(jìn)行冷軋延，形成冷軋坯；

　　將冷軋所形成的冷軋坯做退火熱處理，退火熱處理溫度為300～700℃，時(shí)間為1～5h，得到晶粒細(xì)小且均勻的鈦靶坯，之后通過機(jī)床加工即得鈦靶材。

　　該制備方法通過多次熱處理，使得鈦坯中的元素產(chǎn)生固態(tài)擴(kuò)散，來減輕化學(xué)成分分布的不均勻性，減少靶材坯料的分層現(xiàn)象，縮小晶粒尺寸；同時(shí)可消除殘余應(yīng)力，穩(wěn)定尺寸，減低硬度和脆性，增加其可塑性，減少變形與裂紋傾向。下圖是鈦濺射靶材典型的顯微金相檢測(cè)圖片，平均粒徑<100um。

　　鈦靶材應(yīng)用

　　鈦靶材是一種重要的材料，主要用于制造半導(dǎo)體、光電子和磁性材料等高科技領(lǐng)域的材料。在半導(dǎo)體工業(yè)中，鈦靶材可用于制造電子元件的制造，例如光電二極管、光電品體管、光電接收器和發(fā)射器等。在光電子領(lǐng)域，鈦靶材可用于制造光電子器件，例如LED和太陽能電池等。在磁性材料領(lǐng)域，鈦靶材可用于制造硬盤和磁卡等。

　　除了以上應(yīng)用，鈦靶材還廣泛用于高溫合金、導(dǎo)電材料、化學(xué)催化劑和醫(yī)療設(shè)備等領(lǐng)域，這些領(lǐng)域不僅需要高強(qiáng)度、耐腐蝕的材料，還需要穩(wěn)定的化學(xué)性能和生物相容性。鈦靶材正好滿足這些要求，成為這些領(lǐng)域的重要材料之一。