鈦具有較高的比強度、良好的耐蝕性及耐高溫性（熔點超過1 650 ℃），并且可呈+2、+3、+4價態的氧化態，部分可在溶液中以離子態存在，因此可利用鈦的這些性質和特性進行表面處理。日本大阪府立大學科研工作者利用鈦的性質和特性進行表面處理工藝研究時，獲得了三種新的工藝，分別如下。

　　（1）通過化學方法，利用氧化還原離子對Ti3+/Ti4+制備高純鎳鍍層。

　　（2）利用氧化還原離子對TiN/TiF62-制備金屬納米粒子鍍層。

　　（3）通過等離子滲碳處理在鈦金屬表面涂覆碳薄膜，以提高其耐蝕性。接下來將分別對這三種工藝進行簡要介紹。

　　工藝一 利用化學方法制備鎳鍍層時需要使用各種還原劑，若選用次亞磷酸鈉（NaH2PO2）作為還原劑，則會獲得P含量為10%～12%的鎳鍍層，該鍍層具有優良的非磁穩定性，可用作硬盤的鍍層基底材料；若選用硼氫化鈉（NaBH4）作為還原劑時，可獲得非晶態高強鍍鎳層，并且含有一定量的B。而要獲得純凈的鍍鎳層，就必須避免還原劑中的成分滲入鍍膜中，為此使用了氧化還原離子對Ti3+/Ti4+，即在采用化學法制備鎳鍍層的過程中，3價鈦和4價鈦都以離子形態存在，而在鍍液中添加氮基三乙酸或檸檬酸（作為穩定劑）后，其中的鎳離子可形成絡合物。利用這種方法在Cu線上成功制備了厚度約為10 nm的純鎳鍍層。

　　工藝二 TiN在含氟離子的水溶液中放置時，TiN中的Ti會溶解生成TiF62-，所發生的反應如公式（1）和公式（2）所示。

　　TiN+6HF=TiF62-+NH4++2H++e-(pH＜3.0）  (1)

　　TiN+6F-+4H+=TiF62-+NH4++e-(pH＞3.0）  (2)

　　利用該反應放出的電子可以還原比Ti電位還高的Pd2+，這樣就可以在TiN上析出Pd。研究了在不同pH值的鍍液中以及不同溫度下制備的Pd納米粒子鍍層。結果表明，當鍍槽溫度為70 ℃、鍍液pH為5.2時，所得到的Pd鍍層的粒子最小，分散性最好。TEM測試結果顯示，在TiN上形成了粒徑約為50 nm的Pd納米粒子。由于TiN的電導率低，不能用電解法在其表面鍍上金屬，而以上這種利用氧化還原離子對TiN/TiF62-的電化學鍍方法不失為最好的選擇。

　　工藝三 鎂電池作為新一代二次電池，具有壽命長、無污染、體積小、容量大等優點，極具發展性。通常，鎂電池的電解液是以格利雅試劑（鎂烷基）為基體的溶液，這種電解液中存在著高濃度氯離子，易使電極材料腐蝕，因此，要使鎂電池能夠真正得到商業應用，必須尋找到一種成本低且性能穩定的電極材料。為此，通過等離子滲碳處理（碳源為甲烷或丙烯）在金屬鈦表面涂覆了一層玻璃態碳薄膜，從而使鈦在電解液中的耐蝕性得到了提高。由于鈦的碳吸收能低，其表面可形成厚度約數微米的玻璃態碳薄膜，具有優異的耐蝕性。