這是1981年由美國多弧(Multi-Arc)公司開發的最新離子鍍膜技術。主要特點是利用在真空條件下把性能優異的太空金屬鈦(我國有豐富資源)做成靶，用電弧方式直接產生等離子體，并在真空爐中通入高純氮氣，使鈦離子和氮離子在電場作用下直接“打入”由各種基材制成的產品上，形成一層厚度約1微米結合力很強的氮化鈦鍍層，不僅外觀金光閃閃而且耐磨耐蝕性能優異。從而大大提高該產品的使用價值與經濟價值，例如SHARP錄相機的鈦表層磁鼓就是一例。這是一項可以在各種基材的產品上鍍上特殊性能的化合物薄膜的新技術，有廣泛應用前景。真空電弧離子鍍有以下同個特點：

　　1、各種金屬都可以制成靶在電弧作用下形成等離子體，同時在真空爐中通入不同氣體從而開拓各種特殊性能的復合鍍層、高級裝飾鍍層。

　　2、由于等離子體的繞射性好因而不論產品外形如何都能涂上均勻的膜層，因為以離子方式在電場作用下直接“打入”產品表層，故結合力特別強。

　　3、可以實現低溫條件下的離子鍍(小于200℃)故型料制品的電鍍件也能采用此技術增值。