2． 超聲波研磨： 通過超聲振動(dòng)作用，使磨頭和被研磨面間的磨粒與被研磨面產(chǎn)生相對(duì)運(yùn)動(dòng)而達(dá)到研磨、拋光的目的。其優(yōu)點(diǎn)在于常規(guī)旋轉(zhuǎn)工具研磨不到的溝、窩和狹窄部位變得容易了，但較大的鑄件研磨效果還不能令人滿意。

　　3． 電解機(jī)械復(fù)合研磨： 采用導(dǎo)電磨具，在磨具與研磨面之間施加電解液和電壓，通過機(jī)械和電化學(xué)拋光的共同作用下，降低表面粗糙度提高表面光澤度。電解液為0.9NaCl，電壓為5v，轉(zhuǎn)速為3000rpm/min.，此方法只能研磨平面，對(duì)復(fù)雜的義齒支架的研磨還處于研究階段。

　　4． 桶研磨：利用研磨桶的公轉(zhuǎn)與自轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的離心力，使桶內(nèi)的義齒與磨料相對(duì)摩擦運(yùn)動(dòng)而起到降低表面粗糙度的研磨目的。研磨自動(dòng)化、效率高，但只能降低表面粗糙度而不能提高表面光澤度，研磨的精度較差，可用與義齒精拋光前的去毛刺和粗研磨。

　　5． 化學(xué)拋光：化學(xué)拋光是通過金屬在化學(xué)介質(zhì)中的氧化還原反應(yīng)而達(dá)到整平拋光的目的。其優(yōu)點(diǎn)是化學(xué)拋光與金屬的硬度、拋光面積與結(jié)構(gòu)形狀無關(guān)，凡與拋光液接觸的部位均被拋光，不須特殊復(fù)雜設(shè)備，操作簡便，較適合于復(fù)雜結(jié)構(gòu)鈦義齒支架的拋光。但化學(xué)拋光的工藝參數(shù)較難控制，要求在不影響義齒精度的情況下能夠?qū)αx齒有良好的拋光效果。較好的鈦化學(xué)拋光液是HF和HNO3 按一定比例配制，HF是還原劑，能溶解鈦金屬，起到整平作用，濃度<10%, HNO3起氧化作用，防止鈦的溶解過度和吸氫，同時(shí)可產(chǎn)生光亮作用。鈦拋光液要求濃度高，溫度低，拋光時(shí)間短(1~2min.)。

　　6． 電解拋光：又稱為電化學(xué)拋光或者陽極溶解拋光，由于鈦的電導(dǎo)率較低，氧化性能極強(qiáng)，采用有水酸性電解液如HF—H3PO4、HF—H2SO系電解液對(duì)鈦幾乎不能拋光，施加外電壓后，鈦陽極立刻發(fā)生氧化，而使陽極溶解不能進(jìn)行。但采用無水氯化物電解液在低電壓下，對(duì)鈦有良好的拋光效果，小型試件可得到鏡面拋光，但對(duì)于復(fù)雜修復(fù)體仍不能達(dá)到完全拋光的目的，也許采用改變陰極形狀和附加陰極的方法能解決這一難題，還有待于進(jìn)一步研究。